深圳技術(shù)大學(xué)教學(xué)線(xiàn)功能薄膜材料制備設(shè)備意向公開(kāi)
采購(gòu)單位:
深圳技術(shù)大學(xué)
項(xiàng)目名稱(chēng):
教學(xué)線(xiàn)功能薄膜材料制備設(shè)備
預(yù)算金額(元):
,,.
采購(gòu)品目:
其他儀器儀表
采購(gòu)需求概況:
、貼片固態(tài)源擴(kuò)散爐. 爐管適配晶圓尺寸:英寸及以下圓片,產(chǎn)量≥片/批. 爐體及工藝管:爐體內(nèi)徑(三段控制):≥φ;石英管直徑:≥φ;爐體:溫度 ℃~℃; . 均熱區(qū)長(zhǎng)度及精度:℃≤工作溫度≤℃-±.℃;工作溫度≤℃-±℃;升溫時(shí)間(從室溫升至℃)-≤。、快速退火爐. 樣片尺寸:英寸圓片及向下兼容;加熱溫度范圍:室溫~℃,加熱方式:鹵素?zé)艄埽? 升溫速率:≥℃/裸晶圓;≥℃/碳化硅載盤(pán);. 溫度均勻度: <℃,均勻度≤±℃;≥℃,均勻度≤±%,溫度控制重復(fù)性:±℃,恒溫持續(xù)時(shí)間:可依據(jù)要求編程;. :路,氧氣、氮?dú)饣驓鍤?。、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積. 樣片尺寸:英寸圓片及向下兼容;. 反應(yīng)腔室:電容耦合等離子體模式;一體化加工腔室,進(jìn)氣方式:噴淋頭進(jìn)氣;. 薄膜均勻性±%;. 真空系統(tǒng):羅茨泵和機(jī)械泵組合,真空測(cè)量:薄膜規(guī),反應(yīng)腔室真空度小于;. 氣路系統(tǒng):路進(jìn)氣,、、、、、、或, 數(shù)字流量計(jì); 管路配件; . 射頻系統(tǒng):射頻功率源,自動(dòng)匹配;. 溫度控制:載片臺(tái)溫度≤℃,溫控精度± ℃。、磁控濺射臺(tái). 樣品基臺(tái):直徑英寸樣品,滿(mǎn)足多個(gè)小基片同時(shí)處理;. 反應(yīng)腔室:不銹鋼材質(zhì),傳輸腔鋁一體加工,自動(dòng)傳輸;. 靶座系統(tǒng):英寸圓形靶座個(gè),位于腔室下部;. 真空性能:本底真空優(yōu)于.-,真空系統(tǒng):分子泵,機(jī)械泵;. 氣路系統(tǒng):標(biāo)配路進(jìn)氣,和;. 電源系統(tǒng):/.自動(dòng)匹配射頻源套;直流源套;.....
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