多功能+光電薄膜材料與器件研發(fā)系統(tǒng) 項(xiàng)目所在采購(gòu)意向： 浙江大學(xué)年月政府采購(gòu)意向 采購(gòu)單位： 浙江大學(xué) 采購(gòu)項(xiàng)目名稱： 多功能+光電薄膜材料與器件研發(fā)系統(tǒng) 預(yù)算金額： .萬(wàn)元(人民幣) 采購(gòu)品目： 真空獲得及應(yīng)用設(shè)備 采購(gòu)需求概況 ： 采購(gòu)標(biāo)名稱：多功能+光電薄膜材料與器件研發(fā)系統(tǒng)； 主要功能：用于多功能光電薄膜材料開發(fā)與器件制備。包括：、、、、等材料的真空蒸鍍、氧化物薄膜的磁控濺射（、等）與原子層沉積（、、、、 、等）、溶液旋涂、真空退火、激光直寫等功能。 數(shù)量： 需滿足質(zhì)量：系統(tǒng)包括真空蒸鍍?cè)O(shè)備（兩臺(tái)）、磁控濺射、原子層沉積、旋涂、真空退火、激光直寫設(shè)備、傳輸腔、載入/載出腔、工藝手套箱。蒸鍍與磁控濺射腔體由傳輸腔連接，其余設(shè)備放置于手套箱中，基片與掩模板在傳輸腔和載入/載出腔內(nèi)由機(jī)械手傳送。 蒸鍍?cè)O(shè)備要求：金屬蒸鍍腔內(nèi)蒸發(fā)源數(shù)量 組，有機(jī)蒸鍍腔內(nèi)蒸發(fā)源數(shù)量 組；真空性能：極限真空 ≤ .×- ，保壓能力 小時(shí) ≤ 。膜厚精度：金屬蒸鍍膜厚均勻性±%，有機(jī)蒸鍍±%?；行С叽纾骸?，可通過(guò)托盤兼容小尺寸基片 × ，數(shù)量 ×；支持在線掩模板切換。 磁控濺射設(shè)備要求：極限真空≤.×- ，抽真空速度，分鐘達(dá)到 ×- ，氮?dú)猸h(huán)境時(shí)間縮短一半； 套 寸磁控靶； 路 流量控制；基片有效尺寸：× ，可通過(guò)托盤兼容小尺寸基片 × ，數(shù)量×。 傳輸腔：極限真空≤.×- ；腔體保壓： 小時(shí)小于 ；內(nèi)含真空機(jī)械手，往返載入腔與蒸鍍腔傳送基片；個(gè)工位，每個(gè)工位傳輸路徑上有檢測(cè)裝置，用于檢測(cè)機(jī)械手上基片有無(wú)狀況。 載入/載出腔：極限真空≤.×- ，抽真空速度， 分鐘達(dá)到 ×- ....